中科院研发成功2nm光刻机是真的吗？是假的，中国光刻机技术落后很多年，想突然突破是不太可能的，接下来宇凡微带大家了解一下目前中国光刻机到哪一步了。

中国目前能量产的光刻机是90nm的光刻机，而下一代28nm的光刻机还在研发中，目前先进的EUV光刻机由荷兰ASML生产能达到7nm，并且2-3nm也正在突破中，而中国目前需要突破的光刻机制程是28、22、14、7，然后才能到世界最先进的2-3nm，因此短期来看技术还差了好几代，所以中科院研发成功2nm的消息是不真实的。

政府也在积极推动半导体产业的发展，并提供资金支持和政策引导。随着时间的推移，中国在光刻机技术领域有望取得更大的突破，进一步提升自己的制造能力和技术水平。

尽管中科院研发成功2nm光刻机的消息不属实，但中国在光刻机技术领域的发展仍在积极进行，未来有望取得更大的突破。重要的是继续加大科研投入和技术创新，促进半导体产业的进一步发展。