我们知道光刻机非常难造，比原子弹还难百倍，毕竟要在一个指甲盖上雕刻出一座城市，难度无法想象，而我国的光刻机一直都靠进口荷兰asml的光刻机，近年来被美国、荷兰、日本联合制裁后，我国买不到最新的EUV光刻机，这也让我国只能被迫加快国产光刻机的研发进度。

我国的光刻机到哪个水平了呢？
目前我国光刻机技术领先的企业是上海微电子，已经实现了90nm光刻机的量产，经过曝光后可以生产五六十纳米的芯片。多次曝光后可以生产更低制程的芯片，然而良品率也会大大降低，因此需要更低制程的光刻机。

中国光刻机新突破
上海微电子近年来一直在攻克28nm的光刻机，网上也出现不少好消息，毕竟90nm的量产以及是5年前的事，而28nm上海微电子也研究很多年了，相信离量产也不远了。

坏消息是美国、荷兰、日本联合一起限制半导体设备出口，意味着我国芯片行业很多设备也买不到了，这就需要我们自己造了。中国光刻机28nm还要多久？我们一起拭目以待吧。