中端国产光刻机的诞生标志着中国在半导体制造领域的重要进展。光刻机是半导体制造过程中的关键设备，用于将芯片的电路图案投射到硅片上。传统上，全球主要的光刻机供应商都集中在美国、欧洲和日本等发达国家，中国一直依赖进口光刻机来满足国内芯片制造需求。然而，随着中国对半导体自给自足的追求和技术实力的提升，中国开始投入大量资源和努力来发展自己的光刻机制造能力。

中端国产光刻机诞生主要是上海微电子的90nm光刻机，90nm光刻机经过两次曝光,可以制成45nm的芯片,三次曝光后可以制成22nm的芯片。当然，随着曝光次数越多，良品率会越来越低，因此此光刻机主要集中在中端领域，此光刻机在2007年就研发出来了，但是到了2018年才实现量产，可见光刻机每一步都很艰难，截止至目前，我国量产的光刻机仍然停留在90nm。

很多人说要弯道超车，但是在光刻机这种技术非常复杂的设备上，我们也只能一步一步来，希望中国有朝一日也能量产出7nm的EUV光刻机。