目前中国还没有成功生产首台5纳米光刻机，但是中国在5纳米工艺节点方面的研发和生产已经取得了不少进展。光刻机是半导体工艺中的核心设备，主要用于制造集成电路中的微小结构。5纳米工艺是目前最先进的工艺节点之一，可以制造出更快、更节能、更高性能的处理器和存储器。

中国在5纳米工艺方面的研发起步较晚，但是在近年来迅速追赶，已经取得了一些进展。例如，中国在华为公司的带领下，成功开发了首款基于7纳米工艺的手机芯片麒麟980，并在后续的麒麟990和麒麟1020等产品中继续使用了7纳米工艺。同时，中国企业也在积极研发更先进的工艺节点。

5纳米工艺对光刻机的精度和稳定性要求非常高。由于5纳米工艺的微小结构，需要使用更加精密的光刻技术进行制造。而目前市场上能够生产5纳米光刻机的公司主要是荷兰ASML公司和日本尼康公司，他们在技术方面处于领先地位。然而，由于美国政府的管制，荷兰ASML公司在向中国出口5纳米光刻机时面临一定的限制。因此，中国在自主研发和生产5纳米光刻机方面仍然非常困难，需要一些时间。

中国在半导体工艺方面的研发和生产已经取得了不少进展，但是在面对更先进的工艺节点时，仍然需要不断地进行技术创新和突破，才能够与国际领先水平保持竞争力。中国首台5纳米光刻机成功生产了吗？暂时自然还没有。